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渦輪分子泵脈沖激光沉積系統 PLD 抽真空
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渦輪分子泵脈沖激光沉積系統 PLD 抽真空

青海十一选五昨天开奖结果查询 www.thliqx.com.cn 上海伯東德國普發 Pfeiffer  渦輪分子泵組脈沖激光沉積系統應用
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成,整個系統需要超高真空且不能引入任何雜質,對環境的清潔度要求較高,必須配備無油干泵和分子泵抽真空。由于各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 伯東公司銷售維修的 Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小,清潔無油(前級泵配備干泵)、抽速快、極限真空度高達10-11mbar等優點一經上市好評如潮。

客戶案例一:江蘇某大學電信系 脈沖激光沉積系統
1.系統功能:主要用于Mn氧化物等復雜材料膜。
2.渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3.樣品尺寸:6英寸
4.基片旋轉,加熱溫度:750℃
5.膜生長控制模式:鍍率/厚度/時間 控制模式
脈沖激光沉積系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵 Pfeiffer Hipace 400
2.分子泵 Pfeiffer Hipace 80
3.干泵 Pfeiffer MVP 040

Pfeiffer 渦輪分子泵
Pfeiffer 渦輪分子泵
客戶案例二:南京某大學物理學院
1.系統功能:主要用于Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金屬膜的制備
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.樣品尺寸:大約1cm2
4.基板加熱溫度:700至1000度
PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普發經濟型分子泵組 HiCube 80 Eco
2.Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 700
Pfeiffer 普發渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統
客戶案例三:上海某研究所  脈沖激光沉積系統基本規格:
1.系統功能:主要用于制備有機自旋閥器件,還可用于制備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸:直徑2’
4.基板加熱溫度:1000度
5.鍍膜方式:Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控制模式:鍍率/厚度/時間 控制模式
該PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer HiCube 80*7
2.渦輪分子泵 pfeiffer Hipace 300*2
Pfeiffer 普發渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統
真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。

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