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離子刻蝕 IBE
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離子刻蝕 IBE

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離子刻蝕機 IBE

 特性
 Base Pressure  5E-10 torr
 - 美國 KRI 離子源 RFICP 100
 - Tilatable(+/45), continuously rotatble manipulator with water cooling

 

離子刻蝕機 IBE

 特性
 - Base Pressure  5E-10 torr
 - 美國 KRI 離子源 KDC 75
 - Tilatable(+/180), continuously rotatble manipulator with water cooling


上海伯東代理鎧柏科技制造的超導結制備用電子束蒸鍍設備, 鎧柏鍍膜機專精于金屬及氧化物薄膜的制備, 可用于超導量子實驗室制備超導結 (量子比特和約瑟夫森結) 和量子器件, 可以制備大面積, 高穩定性和可重復性超導結. 提供各種類型的 MBE, E-beam, Sputter, IBE. 提供客制化設備, 擅長各種類型系統的集成. 

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